삼성전자가 중국 현지에 반도체 생산라인을 갖추기 위한 첫삽을 떴다.
 

삼성전자는 12일 시안하이테크기술산업개발구(西安高新技术产业开发区) 내 ‘삼성 중국 반도체 생산단지’ 부지에서 기공식을 가지고 본격적인 공장 건설에 들어갔다.
 

이 공장은 총투자금 70억달러(442억元)를 투자해 건설된다. 삼성의 중국 투자 중 역대 최대 규모다.
 

공장 건설이 순조롭게 진행되면 차세대 10나노미터급 플래시메모리 생산라인을 갖춰 오는 2014년부터 생산에 들어간다.
 

삼성전자 측은 “시안시가 반도체 생산라인 운용에 필요한 산업 용수와 전기 공급이 원활하고 글로벌 IT기업의 생산 중심지 및 연구 거점으로 성장하는 지역이어서 글로벌 전략을 강화하는데 최적의 장소로 평가해 반도체 공장을 짓게 됐다”고 밝혔다.
 

권오현 대표이사는 “첨단 과학과 교육의 도시인 시안에서 기공식을 갖게 되어 영광”이라며 “삼성전자는 메모리산업에서 세계 1위 자리를 유지해 왔으며 향후에도 ‘삼성중국반도체’를 통해 최고의 제품으로 인류사회에 공헌할 것”이라고 밝혔다.
 

국무원 리커창(李克强) 부총리는 “이번 10나노미터급 플래시메모리 프로젝트는 한국과 중국, 양국의 강점을 살려 정보산업 분야의 긴밀한 협력을 통해 이룩한 중요한 성과”라고 축하 서신을 보냈다. [한태민]